О том как учёные с жестокостью и цинизмом надругались над журналистами ( к сегодняшней новости о "нанолитографии" )

Не хотел сегодня ничего писать после рабочего дня, но тем не менее на АШ вот уже две заметки про создание в России нанофотолитографа, при том безмасочного. Собственно вот и вот. И ну не то что бы там вообще всё переврали, просто журналисты ничего не понимая не могли ничего объяснить. Потому придётся вкратце рассказать что ж такое придумал и воплотил в металле А.А. Осипов.

Начнём с того, что новость далеко не сегодняшнего дня. Ещё 20го сентября Осипов давал интервью журналу Стимул. То есть, вообще говоря массовые СМИ только "чухнули", что что-то там изобрели.

Затем в обоих публикациях имеются обороты типа: "Ученые Санкт-​Петербургского политехнического университета Петра Великого (СПбПУ) создали две установки, которые позволят «решить вопрос технологического суверенитета России в этом направлении в сфере микроэлектроники»", или "Разработка комплекса поможет решить вопрос технологического суверенитета России в этом направлении в сфере микроэлектроники, отметили в ведомстве."

Что вообще говоря совсем не так, данная установка, создана для производства кремниевых автокатодов, а не для производства планарных транзисторов. А изначальная идея и вовсе была связанна с солнечной энергетикой. Данная технология не может быть использованная в производстве планарных транзисторов, ведь это совмещение ( весьма гениальное к слову ) в одной установке наносферной литографии и плазмохимического травления. Здесь внимательный читатель скажет : "стоп, а что за зверь такой наносферная литография?". 

Наносферная литография, это процесс получения наноразмерного рельефа на поверхности с помощью микросфер ( обычно из полистирола ). Выглядит примерно так

(a) осаждение наносфер; (b)  травление наносфер для придания им заданного размера; (c) осаждение материала будущей матрицы  ; (d) удаление наносфер.

Кстати, саму технологию нельзя называть безмасочной, ведь наносферы как раз и являются маской в данной литографической технологии. 

Само же нововведение заключается в том, что все операции происходят в одной установке без промежуточных "выгрузок" в атмосферу, за один цикл. Стоит ли говорить на сколько это увеличивает производительность, снижает потенциальный брак?

Ну и наконец в одной из статей подвигших  меня написать данную заметку есть следующий абзац.

"Применение безмасочной нанолитографии в совокупности с плазмохимическим травлением возможно для решения широкого спектра задач. Например, в радиолокационном оборудовании возможно увеличение срока службы приборов более чем в 20 раз. А применение технологии при производстве солнечных панелей позволяет уменьшить их вес и габариты, дает возможность работы в пасмурную погоду при сохранении КПД", – отметил Осипов.

Это прямая цитата Осипова, вот только журналисты видимо не понимали о чём речь, отсюда и пассажи про фотолитографические установки за миллиарды. Тем более где планарная микроэлектроника, а где  РЛС которые до сих пор на лампах? В тоже время, на установке А.А. Осипова удалось получить кремниевые автокатоды превосходящие по значениям плотности тока аналоги на 25%. Если принять во внимание это факт, то всё становится логично. Автокатоды имеют больший срок службы, и позволяют повысить КПД электровакуумного прибора ( банально не тратится энергия на нагрев катода ). 

Таким образом работа Осипова это действительно достижение современной Российской науки, вот только оно не приближает нас к технологическому суверенитету по планарной полупроводниковой электронике.  Но может и будет хорошим подспорьем для последующего развития отечественных ЭВП приборов. Возможно, данная технология пригодится в производстве МЭМС и МОЭМС.